介绍拉伸膜的真空挤出工艺

拉伸膜的真空气相沉积是一种利用热蒸发或辉光放电、电弧放电等物理过程在基板表面沉积所需涂层的技术。它的主要知识是：

当不需要拉伸膜的厚度时，通常使用类似于沉积的技术。拉伸膜的沉积技术是指将金属薄层沉积在基片上或在此之前获得的薄层，称为表面沉积。这里的“薄”是一个相对的概念，但是大多数的沉积技术都可以将拉伸膜的厚度控制在几到几十纳米的范围内，而分子束外延可以获得单个原子层的结构。

拉伸膜沉积技术应用于光学仪器(减反射膜、自清洁表面等)、电子技术(薄膜电阻、半导体、集成电路)、封装和现代艺术。